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Lateral diffusion of titanium disilicide as a route to contacting hybrid Si/organic nanostructures

Par Conseil national de recherches du Canada

DOITrouver le DOI : https://doi.org/10.1063/1.1519959
AuteurRechercher : ; Rechercher : 1; Rechercher : 1; Rechercher : 2
Affiliation
  1. Conseil national de recherches du Canada. Institut des sciences des microstructures du CNRC
  2. Conseil national de recherches du Canada. Institut Steacie des sciences moléculaires du CNRC
FormatTexte, Article
SujetATOMIC FORCE MICROSCOPY; NANOSTRUCTURES (DEVICES); NANOTECHNOLOGY; SCANNING TUNNELING MICROSCOPY; SEMICONDUCTORS (MATERIALS); SOLID-SOLID INTERFACES; SURFACE DIFFUSION; TITANIUM COMPOUNDS; TRANSPORT PROPERTIES
Résumé
We characterized microscopic patterns of TiSi2 using atomic force microscopy and scanning tunneling microscopy, to test the possibility of using silicide contacts for experiments on the nanoscopic scale. We observed the effect on the morphology of incomplete formation of the disilicide, and studied the growth of lateral extension due to atomic diffusion. Upon diffusion, the silicide forms a neat and clean interface some hundreds of nanometers from the bulk electrode. That spreading phenomenon is our central focus, as we believe it may be useful in future efforts to make narrowly spaced contacts.
Date de publication
Dans
  • Applied Physics Letters 81, nº 19 (novembre 2002) : 3636–3638.
Langueanglais
Numéro NPARC12336490
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Identificateur de l’enregistrementecad768d-9f68-4fed-8612-4f6075c8f762
Enregistrement créé2009-09-10
Enregistrement modifié2020-04-06
Date de modification :