Modified Stranski-Krastanov growth in Ge/Si heterostructures via nanostenciled pulsed laser deposition

Par Conseil national de recherches du Canada

DOI	Trouver le DOI : https://doi.org/10.1088/0957-4484/23/6/065603
Auteur	Rechercher : MacLeod, J. M.; Rechercher : Cojocaru, C. V.; Rechercher : Ratto, F.; Rechercher : Harnagea, C.; Rechercher : Bernardi, A.; Rechercher : Alonso, M. I.; Rechercher : Rosei, F.
Format	Texte, Article
Sujet	Different substrates; Elemental compositions; Growth behaviour; Growth morphology; Kinetic control; Laser repetition rate; Morphological evolution; Nanostenciling; Repetition rate; Si(1 0 0); Si/Ge; Stranski-Krastanov growth; Stranski-Krastanov growth mode; Wetting layer; Atomic force microscopy; Atomic spectroscopy; Germanium; Programmable logic controllers; Pulse repetition rate; Pulsed laser deposition; Raman spectroscopy; Scanning electron microscopy; Pulsed lasers
Résumé	The combination of nanostenciling with pulsed laser deposition (PLD) provides a flexible, fast approach for patterning the growth of Ge on Si. Within each stencilled site, the morphological evolution of the Ge structures with deposition follows a modified StranskiKrastanov (SK) growth mode. By systematically varying the PLD parameters (laser repetition rate and number of pulses) on two different substrate orientations (111 and 100), we have observed corresponding changes in growth morphology, strain and elemental composition using scanning electron microscopy, atomic force microscopy and -Raman spectroscopy. The growth behaviour is well predicted within a classical SK scheme, although the Si(100) growth exhibits significant relaxation and ripening with increasing coverage. Other novel aspects of the growth include the increased thickness of the wetting layer and the kinetic control of Si/Ge intermixing via the PLD repetition rate. © 2012 IOP Publishing Ltd.
Date de publication	2012-01-17
Dans	Nanotechnology 23, nº 6, 65603 (17 janvier 2012).
Langue	anglais
Publications évaluées par des pairs	Oui
Publication du CNRC	Cette publication n’est pas du CNRC Ce sont des publications qui ont été rédigées par un auteur du CNRC, mais avant que celui-ci soit employé du CNRC.
Numéro NPARC	21270273
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Identificateur de l’enregistrement	ec1bdbf3-5edd-414f-a207-fd86cc7bacac
Enregistrement créé	2014-01-20
Enregistrement modifié	2020-04-21

Date de modification :: 2024-04-18