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| DOI | Trouver le DOI : https://doi.org/10.1049/el:20045975 |
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| Auteur | Rechercher : Chen, Qiying1; Rechercher : Chen, Kevin P.; Rechercher : Buric, Michael; Rechercher : Nikumb, Suwas1 |
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| Affiliation | - Conseil national de recherches du Canada. Institut des matériaux industriels du CNRC
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| Format | Texte, Article |
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| Sujet | KrF excimer laser; SiO2; birefringence errors; deep ultraviolet femtosecond laser; hydrogen free Mach-Zehnder planar waveguide circuit; planar lightwave circuits; refractive index; silica waveguies; trimming phase errors; ultraviolet photosensitivity |
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| Résumé | A deep ultraviolet femtosecond laser was employed to trim phase and birefringence errors in silica planar lightwave circuits. A permanent refractive index change of ∼3.8×10-4 and a birefringence change of 1.0×10-4 were induced in hydrogen-free Mach-Zehnder planar waveguide circuits. The ultrafast laser enhances the ultraviolet photosensitivity response in silica waveguides by two orders of magnitude greater than that of a nanosecond 248 nm KrF excimer laser. |
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| Date de publication | 2004-09-16 |
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| Dans | |
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| Langue | anglais |
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| Publications évaluées par des pairs | Oui |
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| Numéro NPARC | 21272506 |
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| Identificateur de l’enregistrement | ea453f9f-d732-4029-afc6-ba1f369f1e0c |
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| Enregistrement créé | 2014-12-01 |
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| Enregistrement modifié | 2020-06-04 |
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