Simulation of the spatial distribution and molecular weight of polymethylmethacrylate fragments in electron beam lithography exposures

Par Conseil national de recherches du Canada

DOITrouver le DOI : https://doi.org/10.1116/1.2181580
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Affiliation
  1. Conseil national de recherches du Canada. Institut national de nanotechnologie
FormatTexte, Article
Sujetelectron beam lithography; electron-surface impact; kinetic theory; molecular weight; nanolithography; polymers; resists
Résumé
Date de publication
Dans
Numéro NPARC12339278
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Identificateur de l’enregistrementb98f69cb-b64f-4b57-8d36-7f18ea8cc4b5
Enregistrement créé2009-09-11
Enregistrement modifié2020-04-22
Date de modification :