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Silicon nitride and silicon dioxide thin insulating films VII : proceedings of the international symposium

Par Conseil national de recherches du Canada

ÉditeurRechercher : Sah, R. E.; Rechercher : Sundaram, K. B.; Rechercher : Deen, M. J.; Rechercher : Landheer, D.1; Rechercher : Brown, W. D.; Rechercher : Misra, D.
Affiliation
  1. Conseil national de recherches du Canada. Institut des sciences des microstructures du CNRC
FormatTexte, Compte rendu
Conférence7th Symposium on Silicon Nitride and Silicon Dioxide Thin Insulating Films, 2003, Paris, France
ISBN1566773474
Description physique684 p.
Résumé
The papers address a very wide range of fabrication and characterization techniques and applications of thin films for microelectronic devices. More specific topics address by the papers include: reliability, interface states, gate oxide studies, passivation, tunneling phenomena, and dielectric breakdown.
Date de publication
Maison d’éditionElectrochemical Society
Série
  • Proceedings (Electrochemical Society) 2003-2.
Langueanglais
Numéro NPARC12346596
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Identificateur de l’enregistrementb96cb513-68f1-4e8c-9633-ef87f63985ca
Enregistrement créé2009-09-17
Enregistrement modifié2020-03-02
Date de modification :