Poly(ether sulfone) as a Negative Resist for Electron-Beam Lithography
Poly(ether sulfone) as a Negative Resist for Electron-Beam Lithography
Format | Texte, Article |
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Date de publication | 2007 |
Dans | |
Langue | anglais |
Publications évaluées par des pairs | Oui |
Numéro du CNRC | NRC-NINT-235 |
Numéro NPARC | 8926402 |
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Identificateur de l’enregistrement | a1b30037-d051-4505-a133-2769f4201893 |
Enregistrement créé | 2009-04-23 |
Enregistrement modifié | 2023-05-10 |
- Date de modification :