Poly(ether sulfone) as a Negative Resist for Electron-Beam Lithography

Par Conseil national de recherches du Canada

FormatTexte, Article
Date de publication
Dans
Langueanglais
Publications évaluées par des pairsOui
Numéro du CNRCNRC-NINT-235
Numéro NPARC8926402
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Identificateur de l’enregistrementa1b30037-d051-4505-a133-2769f4201893
Enregistrement créé2009-04-23
Enregistrement modifié2023-05-10
Date de modification :