Physics and Technology of High-k Gate Dielectrics 5
Physics and Technology of High-k Gate Dielectrics 5
Éditeur | Rechercher : Iwai, H.; Rechercher : Kar, S.; Rechercher : De Gendt, S.; Rechercher : Houssa, M.; Rechercher : Landheer, Dolf1; Rechercher : Misra, D. |
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Affiliation |
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Format | Texte, Chapitre de livre |
Maison d’édition | The Electrochemical Society |
Emplacement | Pennington, NJ |
Dans | |
Numéro NPARC | 12346786 |
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Identificateur de l’enregistrement | a10c0451-ed7d-4b2d-953d-157d26c06c52 |
Enregistrement créé | 2009-09-17 |
Enregistrement modifié | 2020-03-03 |
- Date de modification :