| Auteur | Rechercher : Landheer, D.1; Rechercher : Gupta, J. A.1; Rechercher : Wu, X.1; Rechercher : Sproule, G. I.1; Rechercher : Moisa, S.1; Rechercher : Quance, T.1; Rechercher : Graham, M. J.1; Rechercher : Baumvol, I. J. R.; Rechercher : Morais, J.; Rechercher : Lennard, W. N. |
|---|
| Affiliation | - Conseil national de recherches du Canada. Institut des sciences des microstructures du CNRC
|
|---|
| Format | Texte, Article |
|---|
| Conférence | Materials Research Society Workshop Series: International Workshop on Devices Technology: Alternatives to SiO2 as Gate Dielectric for Future Si-Based Microelectronics, 3-5 September 2001 |
|---|
| Langue | anglais |
|---|
| Numéro NPARC | 12346177 |
|---|
| Exporter la notice | Exporter en format RIS |
|---|
| Signaler une correction | Signaler une correction (s'ouvre dans un nouvel onglet) |
|---|
| Identificateur de l’enregistrement | 9a955279-55ed-4dc8-9a67-2f024bd4d93d |
|---|
| Enregistrement créé | 2009-09-17 |
|---|
| Enregistrement modifié | 2020-04-16 |
|---|
