Pulsed laser ablation : a method for deposition and processing of semiconductors at an atomic level

Par Conseil national de recherches du Canada

DOITrouver le DOI : https://doi.org/10.4028/www.scientific.net/MSF.173-174.73
AuteurRechercher : 1
ÉditeurRechercher : Briege, M.; Rechercher : Dittrich, H.; Rechercher : Klose, M.; Rechercher : Schock, H.W.; Rechercher : Werner, J.
Affiliation
  1. Conseil national de recherches du Canada. Institut des sciences des microstructures du CNRC
FormatTexte, Article
ConférenceFirst International Symposium on Semiconductor Processing and Characterization with Lasers: Applications in Photovoltaics, April 1994, Stuttgart, Germany
Résumé
Date de publication
Dans
Langueanglais
Numéro NPARC12328053
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Identificateur de l’enregistrement948f0971-6446-4589-93d1-6aafcc0fd71e
Enregistrement créé2009-09-10
Enregistrement modifié2020-04-29
Date de modification :