Téléchargement | - Voir le manuscrit accepté : The growth and stability of passive films (PDF, 827 Kio)
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Auteur | Rechercher : Graham, M. J.1; Rechercher : Bardwell, J. A.1; Rechercher : Sproule, G. I.1; Rechercher : Mitchell, D. F.1; Rechercher : MacDougall, B. R.1 |
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Affiliation | - Conseil national de recherches du Canada. Institut des sciences des microstructures du CNRC
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Format | Texte, Article |
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Résumé | Cet article examine la croissance et la rupture des couches passives d'oxyde formées sur des métaux et des alliages à l’aide de techniques d'analyse des surfaces et en particulier, la spectrométrie de masse des ions secondaires [secondary ion mass spectrometry ou SIMS]. Nous avons ainsi caractérisé les oxydes formés sur du Fe et des alliages Fe-Cr dans des solutions contenant du 18O et déterminé leur stabilité après leur exposition à l'air. Nous avons observé que la stabilité des couches au contact de l'air décroît avec l'augmentation de la teneur en Cr de l'alliage. Les couches formées sur du Fe dans une gamme passive de potentiels en solution tampon de borate sont stables après une exposition ex situ, contrairement à celles formées sur des alliages Fe-26Cr après leur passivation à n’importe quelle valeur passive de potentiel. Ce résultat souligne le rôle des techniques ex situ sur l’examen de l'épaisseur et de la composition des couches passives formées sur des alliages à haute teneur en Cr. Les couches passives jouent un rôle essentiel dans l'initiation des piqûres et leur rupture peut se produire lorsqu’elles sont formées sur du Fe en solution de Cl sous l’influence de processus que nous discutons dans l’article. Nos résultats indiquent que la piqûration intervient à un stade critique de la formation des couches passives d'oxyde. |
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Date de publication | 1993 |
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Dans | |
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Langue | anglais |
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Publications évaluées par des pairs | Oui |
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Numéro du CNRC | NRCC 52299 |
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Numéro NPARC | 16335068 |
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Identificateur de l’enregistrement | 8add9158-082b-4082-9d40-20242f17b901 |
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Enregistrement créé | 2010-11-08 |
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Enregistrement modifié | 2020-04-24 |
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