Room temperature deposition of ITO using r.f. magnetron sputtering
Room temperature deposition of ITO using r.f. magnetron sputtering
DOI | Trouver le DOI : https://doi.org/10.1016/S0040-6090(02)00425-X |
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Format | Texte, Article |
Date de publication | 2002 |
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Numéro NPARC | 12744715 |
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Identificateur de l’enregistrement | 6f37ef24-058a-4252-a589-d1f81cdd172d |
Enregistrement créé | 2009-10-27 |
Enregistrement modifié | 2020-03-30 |
- Date de modification :