Formation and reactivity of high quality halogen terminated Si(1 1 1) surfaces

Par Conseil national de recherches du Canada

DOITrouver le DOI : https://doi.org/10.1016/j.susc.2005.02.006
AuteurRechercher : 1; Rechercher : 2
Affiliation
  1. Conseil national de recherches du Canada. Institut des étalons nationaux de mesure du CNRC
  2. Conseil national de recherches du Canada. Institut Steacie des sciences moléculaires du CNRC
FormatTexte, Article
SujetBromine; Chlorine; Electron energy loss; Oxidation; Scanning tunneling microscopy; Silicon; Surface chemistry; Water
Résumé
Date de publication
Dans
Numéro NPARC12327032
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Identificateur de l’enregistrement6e93de1e-e1b8-425f-9bc3-586aba8ec878
Enregistrement créé2009-09-10
Enregistrement modifié2020-04-07
Date de modification :