Thermal stability and diffusion in gadolinium silicate gate dielectric films

Par Conseil national de recherches du Canada

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DOITrouver le DOI : https://doi.org/10.1063/1.1412284
AuteurRechercher : 1; Rechercher : 1; Rechercher : ; Rechercher : ; Rechercher : ; Rechercher : ; Rechercher : ; Rechercher :
Affiliation
  1. Conseil national de recherches du Canada. Institut des sciences des microstructures du CNRC
FormatTexte, Article
Résumé
Date de publication
Dans
Langueanglais
Numéro NPARC12743790
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Identificateur de l’enregistrement6ddd403b-e6c1-483f-a951-6ce626709c51
Enregistrement créé2009-10-27
Enregistrement modifié2020-03-27
Date de modification :