The effect of rapid thermal N[sub 2]O nitridation on the oxide/Si(100) interface structure

Par Conseil national de recherches du Canada

DOITrouver le DOI : https://doi.org/10.1063/1.114801
AuteurRechercher : 1; Rechercher : ; Rechercher : ; Rechercher :
Affiliation
  1. Conseil national de recherches du Canada. Institut des sciences des microstructures du CNRC
FormatTexte, Article
SujetCHEMICAL BONDS; INTERFACE STRUCTURE; INTERFACES; MOS JUNCTIONS; OXIDATION; OXYNITRIDES; PHOTOELECTRON SPECTROSCOPY; SILICON; SILICON NITRIDES; SILICON OXIDES
Résumé
Date de publication
Dans
Langueanglais
Numéro NPARC12338346
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Identificateur de l’enregistrement64f8a605-81d8-428e-ad5b-288612dc6a15
Enregistrement créé2009-09-10
Enregistrement modifié2020-04-29
Date de modification :