The reoxidation of oxynitride films on silicon at 1050°C

Par Conseil national de recherches du Canada

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Affiliation
  1. Conseil national de recherches du Canada. Institut de biotechnologie des plantes du CNRC
  2. Conseil national de recherches du Canada. Institut des sciences des microstructures du CNRC
FormatTexte, Article
Date de publication
Dans
Numéro NPARC12327245
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Identificateur de l’enregistrement39d1bc09-24cd-47de-982a-4f421de8c3aa
Enregistrement créé2009-09-10
Enregistrement modifié2020-03-20
Date de modification :