Positron study of plasma-enhanced chemical vapor deposited silicon nitride films

Par Conseil national de recherches du Canada

DOITrouver le DOI : https://doi.org/10.1063/1.360115
AuteurRechercher : 1; Rechercher : 1; Rechercher : 1; Rechercher : ; Rechercher : ; Rechercher :
Affiliation
  1. Conseil national de recherches du Canada. Institut des sciences des microstructures du CNRC
FormatTexte, Article
SujetCHEMICAL COMPOSITION; CV CHARACTERISTIC; CVD; DEFECT STATES; DEPTH PROFILES; INFRARED SPECTRA; POSITRON PROBES; SILICON NITRIDES; VACANCIES
Résumé
Date de publication
Dans
Langueanglais
Publications évaluées par des pairsOui
Numéro NPARC12328849
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Identificateur de l’enregistrement35c4f0d8-f5d6-43c0-9726-766f7a0bebf6
Enregistrement créé2009-09-10
Enregistrement modifié2020-04-29
Date de modification :