High resolution electron beam lithography of PMGI using solvent developer

Par Conseil national de recherches du Canada

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DOITrouver le DOI : https://doi.org/10.1016/j.mee.2008.01.008
AuteurRechercher : 1; Rechercher : 1
Affiliation
  1. Conseil national de recherches du Canada. Institut des matériaux industriels du CNRC
FormatTexte, Article
SujetPMGI; Electron beam lithography; Solvant developer; Resist; High resolution
Résumé
Date de publication
Dans
Langueanglais
Publications évaluées par des pairsOui
Numéro du CNRCNRCC 53680
Numéro NPARC15854996
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Identificateur de l’enregistrement32f114a1-574c-4b21-a324-77425d98eeca
Enregistrement créé2010-07-30
Enregistrement modifié2020-04-15
Date de modification :