Effects of low temperature preannealing on ion-implant assisted intermixing of Si1−xGex/Si quantum wells

Par Conseil national de recherches du Canada

DOITrouver le DOI : https://doi.org/10.1063/1.117131
AuteurRechercher : 1; Rechercher : 1; Rechercher : 1; Rechercher : 1; Rechercher : 1; Rechercher : ; Rechercher :
Affiliation
  1. Conseil national de recherches du Canada. Institut des sciences des microstructures du CNRC
FormatTexte, Article
SujetQuantum Wells; Silicon; Germanium Silicides; Ion Implantation; Annealing; Photoluminescence; Energy Gap; Cvd; Ge And Si; Kinetics Of Defect Formation And Annealing; Low-Dimensional; Mesoscopic; Nanoscale And Other Related Systems: Structure And Nonelectronic Properties; Elemental Semiconductors
Résumé
Date de publication
Dans
Langueanglais
Publications évaluées par des pairsOui
Numéro NPARC12338563
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Identificateur de l’enregistrement2906fa51-c9f3-4f81-80b4-630f4be809d9
Enregistrement créé2009-09-10
Enregistrement modifié2020-03-20
Date de modification :