Properties of InAlP Native Oxides Suorting MOS Inversion-layer Behavior
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Format | Texte, Article |
Conférence | 43rd Electronic Materials Conference, June 27-29 2001, Notre Dame, Indiana |
Numéro NPARC | 12346233 |
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Identificateur de l’enregistrement | 280608c4-8784-4d59-930a-f5c74ec9b2d4 |
Enregistrement créé | 2009-09-17 |
Enregistrement modifié | 2020-04-16 |
- Date de modification :