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DOI | Trouver le DOI : https://doi.org/10.1063/1.3448232 |
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Auteur | Rechercher : Liu, J.; Rechercher : Wu, X.1; Rechercher : Lennard, W. N.; Rechercher : Landheer, D.1; Rechercher : Dharma-Wardana, M. W. C.1 |
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Affiliation | - Conseil national de recherches du Canada. Institut des sciences des microstructures du CNRC
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Format | Texte, Article |
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Résumé | Hf silicate films (HfO2)0.25(SiO2)0.75 with thicknesses in the range 4–20 nm were grown on silicon substrate by atomic layer deposition at 350 °C. Hf distributions in as-grown and 800 °C annealed films were investigated by high resolution transmission electron microscopy (HRTEM), angle-resolved x-ray photoelectron spectroscopy (ARXPS), and medium energy ion scattering (MEIS). HRTEM images show a layered structure in films thinner than 8 nm. The ARXPS data also reveal a nonuniform distribution of Hf throughout the film depth. Diffusion of SiO2 to the film surface after a longer time anneal was observed by MEIS. All these observations provide evidence for surface-directed spinodal decomposition in the pseudobinary (HfO2)x(SiO2)1−x alloy system. |
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Date de publication | 2010-06-18 |
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Dans | |
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Langue | anglais |
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Publications évaluées par des pairs | Oui |
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Numéro NPARC | 17326679 |
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Identificateur de l’enregistrement | 16c3ff85-c7fa-4ceb-b36a-a96063bb849f |
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Enregistrement créé | 2011-03-26 |
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Enregistrement modifié | 2020-04-17 |
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