Interfacial Layer Formation in Gd2O3 Films Deposited Directly on Si(0 0 1)

DOI	Trouver le DOI : https://doi.org/10.1016/S0169-4332(01)00014-9
Auteur	Rechercher : Gupta, J. A.; Rechercher : Landheer, Dolf¹; Rechercher : Sproule, G¹; Rechercher : McCaffrey, John²; Rechercher : Graham, Michael¹; Rechercher : Yang, K. C.; Rechercher : Lu, Z. H.; Rechercher : Lennard, W. N.
Affiliation	Conseil national de recherches du Canada. Institut des sciences des microstructures du CNRC Conseil national de recherches du Canada. Institut des étalons nationaux de mesure du CNRC
Format	Texte, Article
Date de publication	2001
Dans	Applied Surface Science 173, nº 3-4 (2001) : 318–326.
Numéro NPARC	12744214
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Identificateur de l’enregistrement	09672c18-8c5e-4b5f-8e35-8c31528a8d91
Enregistrement créé	2009-10-27
Enregistrement modifié	2020-03-27